2024年1月18日 · 本文介绍了晶圆表面缺陷检测设备,重点讨论了有图案(明场与暗场)和无图案检测技术,强调了kla在市场中的主导地位。 文章还提到了电子束设备如扫描电子显微镜和光学检测设备,如2D相机视觉检测,以及面临的挑战如快速自动对焦和图像处理算法的稳定性。
2024年9月26日 · 半导体检测技术中,无图案晶圆检测与图案晶圆检测是两种重要的检测方式,它们在检测原理、应用场景及挑战等方面存在显著差异。以下是对这两种检测技术的详细分析: 一、无图案晶圆检测. 1. 检测原理
2024年10月6日 · 晶圆本身存在良率问题,晶圆表面也可能存在各类缺陷,为了防止存在缺陷的晶片流入后道封装工序,需借助光学检测设备识别晶圆表面缺陷并分类、标记,辅助晶片分拣。
2024年8月23日 · 晶圆缺陷检测系统的主要作用是检测晶圆上的缺陷并找出其位置(位置坐标)。 另一方面,系统缺陷是由掩模和曝光工艺的条件引起的,并且会出现在所有投影的芯片的电路图案上的相同位置。
有图案和无图案晶圆缺陷检测和复检系统能发现、识别晶圆前后表面和边缘上的颗粒与图案缺陷,同时对这些颗粒和缺陷进行分类。 该信息将帮助工程师发现、解决并监控关键的良率偏移,从而加快良率提升并达到更高的产品良率。
下面将介绍晶圆片和分划板检测技术,以及当前检测工具的一些特性。 缺陷扫描检查 本节重点介绍裸露晶片存在的各种缺陷以及用于识别这些缺陷的技术。
Surfscan ® 无图案晶圆检测系统可识别影响半导体元件性能和可靠性的缺陷及表面质量问题。通过对设备、工艺和材料进行认证和监控,能够迅速找到表面的缺陷,从而支持IC、OEM、材料和晶圆制造。
其实做晶圆检测的设备并不算多,只是其中的检测过程比较多而已的! 过程控制:半导体晶圆制造过程中不同工艺之后,往往需要进行尺寸测量、缺陷检测等,用于工艺控制、良率管理,要求快速、准确。尺寸测量、缺陷检测等应用于每道制程工艺之后。
在高质量摄像系统的帮助下,质检人员可以检查晶圆的表面,并检测与最佳表面的最小偏差。晶圆是正方形或圆形的薄圆盘,用作沉积电子元件的基板。晶圆被用于各种领域,例如光伏、微机械和半导体工业。
PVA TePla凭借着对半导体器件制造的全流程链中所有的高端制造工艺具有全面深入的了解,依托多年技术的积累,我们的晶圆检测设备及技术通过基于激光测量和VPD过程等分析方法,可以全方位发现各工艺中的化学和物理影响。