OVL：overlay，指芯片制造过程中，对于每一层pattern的对准。 其是一个非常关键的参数，因为芯片上的每一层pattern都需要精准上一层，对不准就会导致工艺失败，无法进行下一步。

半导体CD（Critical Dimension）和OVL（Overlay）测量设备是芯片制造过程中不可或缺的工具。 CD测量设备用于精确测量半导体晶圆上微小特征的尺寸，确保它们符合设计规格。

2022年6月11日 · CDSEM用于量测特征尺寸和表面形貌，HV CDSEM适用于深孔和槽的量测，Ellipsometry侧重薄膜厚度，OCD则用于多维度的薄膜特性分析。此外，还讨论了套刻精度（OVL）的重要性及其在保证工艺窗口中的作用。这些技术在确保芯片质量和工艺控制中起到关键 …

半导体光刻机台通过量测OVL转化成Focus的过程和方法。

2024年6月24日 · OVL，即Overlapping Value，代表了基片上两个不同层之间的套刻偏移，是衡量光刻精度的关键指标。 在14纳米节点的制造中，OVL测量误差需严格控制在小于线宽的30%，也就是小于4.2纳米，这要求套刻量测设备的性能达到极致。

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晶圆cd/ovl量测设备 Tornado 2100 是维普推出针对晶圆全自动光学关键尺寸及套刻测量设备，基于高分辨率的光学成像系统，进一步提升图形对比度以及减少过渡像素。

2024年6月26日 · oVL是overlay的缩写，指的是在半导体器件制造过程中，用于测量不同图案层之间的偏移或者重叠程度的一种测量技术。 在半导体工艺中，不同的光刻层需要精确地对准叠加在一起，以确保器件的性能和功能。

Lenses were gently used and are in a very good condition. Should fit most of camcorders.

上述技术方案中，通过改善现有的套刻精度量测图形，将当层图形与前层图形没有ovl偏差，即两个图形的中心4没有ovl偏差，改为人为添加套刻精度偏差，一次量测后通过计算方法消除tis的影响，解决ibo方法量测套刻精度时产生tis的问题。