2019年3月3日 · Maybe you want to ask a more specific question? What's the point of 50nm EUV if DUV can already achieve this as illustrated in my answer. There is an energy density charge transfer explosive (deflagration to detonation) physics issue with the dielectric boundary of the pellicle interface.

DUV是目前比较成熟的方案，现阶段最高采用193nm波长的深紫外光源，被广泛应用在7nm（N7)以及7nm以前的工艺里。 伴随着工艺的继续微缩，DUV已经力不从心，所以现在无论是台积电还是三星都引入了极紫外光源的EUV光刻工艺。

（3）张江集团发布的28纳米光刻机信息，有一些被删除了，但仍有一些还能看到。 顺便说一下，2024年工信部发布的国产DUV光刻机的报道，可能是低调缩水版，28纳米分辨率的DUV光刻机早已经解决。 2023年12月19日，张江集团发布信息证实。

从上面的技术演进图其实也可以看到，ArF最高能够支持到65nm工艺，而这台国产光刻机，分辨率就是65nm，很明显就是贴近极限值的。 另外，浸润式DUV,和干式DUV，其中最大的区别，就是在晶圆前面，加了一层介质水。

一张嘴就是槽点。 根本不存在所谓的7nm光刻机，直接把光刻机说成是7nm、14nm、28nm都是有问题的。 光刻机应该是按照光源波长来划分: 用436nm光源的是g-line光刻机， 用365nm光源的是i-line光刻机，上海微电子的 SSX600扫描式光刻机就是这个类型， 用248nm光源的是KrF光刻机， 用193nm深紫外光光源的是DUV光刻 ...

电商DUV一般是指店铺流量的大小，不限制于成交量。 只看流量大小，一般再购买广告后或者大促期间会是一个比较有标志性的数据指标。

9月9日，工信微报微信公众号发文披露《首台（套）重大技术装备推广应用指导目录（2024年版）》。其中，在…

图 2019年Joseph Braat因为其在衍射极限的光学成像领域重要贡献获得Holst Memorial Lecture Award 邵： 您对EUV光刻或其他光学光刻技术的未来发展有何看法? Joseph： 在当前的13.5 nm的光刻波长下，蔡司的非球面EUV投影系统可以实现最高0.55的数值孔径。而在较短的波长上，比如6 nm，制造光学系统在理论上可能的 ...

2019年5月8日 · 光刻机经过了很多代的发展，不过到目前，先进工艺里用的光刻机只有两种光源，一般我们也叫做EUV和DUV（EUV和DUV内部都还有版本，不过现在的DUV基本都是浸润式193nm ArF DUV，而EUV都是第一代EUV，所以就不做写的太详细了）。

简单学习了以下，自己来回答一下吧。E-beam这工艺，用处比较广泛，可能每个人回答问题的角度都不一样，下面有位仁兄（@liqiuguo）说到我关注的点子了，非常感谢。 我主要是想了解两种工艺在应用于光刻中的区别。简单来说E-beam做光刻时，最小特征尺寸可以控制在20nm左右的精度，甚至更小。而DUV ...