在中国光学与精密机械领域，中科院下属的五大研究所—— 长春光机所、上海光机所、西安光机所、安徽光机所、成都光电所 ，被称为“五大门派”。它们各展所长，撑起了我国光电科技的半壁江山。本文从 历史渊源、科研实力、经费投入、院士规模 ...

如果把芯片比做一件艺术品，那么设备只是工具无论是euv还是duv，一般会做的只是工匠，会做精品的才是大师，芯片领域谁会做精品，国内也只有中芯国际。

当ASML总裁彼得·温宁克三年前那句"中国人太聪明，封锁只会逼出他们的技术"还在硅谷被当成笑话时，中国科学家用一束193纳米激光轰碎了整个西方芯片封锁的铁幕！2025年3月25日，中科院官宣全固态深紫外（DUV）激光光源技术突破，不用一滴稀有气体，不 ...

重大突破，中科院的DUV光刻技术厉害了，希望早点走出实验室！

中国DUV光刻机亮相，能造出三纳米芯片，性能不输ASML ...

ASML的担忧似乎成真了。ASML首席执行官曾表示，美国的制裁可能会促使中国自主研发出先进的技术。当时许多人认为这只是恭维之词，甚至有人觉得他是为了销售光刻机而吹捧中国。然而，不到两年时间，国产光刻机再次实现了重大突破。

阿斯麦的三大决策，本质上是在延缓中国半导体产业自主化的进程。通过提供更好的售后服务、放宽出口限制、加强本地化布局，阿斯麦希望维持在中国市场的份额，同时减缓中国国产光刻机的崛起速度。

快科技3月25日消息，据悉，中国科学院成功研发除了突破性的固态DUV (深紫外)激光，可发射19 3nm 的相干光，与目前主流的DUV曝光波长一致，能将半导体工艺推进至 3nm 。

中国科学院研发除了突破性的固态DUV（深紫外线）激光，可发射193nm的相干光，与目前主流的DUV曝光波长一致，能将半导体制程推进至3nm。

中国科学院近期成功研发了一项突破性的固态DUV（深紫外）激光技术，这种技术能够发射193nm的相干光，与目前主流的DUV曝光波长一致。这一技术的成功，为推动半导体工艺的发展至3nm节点奠定了基础。

2025 年 3 月 26 日，我回答了一个包含不实信息的糟糕科技新闻类问题： 这个问题后来被知乎冻结了。我当时的回答如下： 全固态 DUV（深紫外）光源在理论上具有比当前主流 DUV ...

3月24日消息，中国科学院（CAS）研究人员成功研发突破性的固态深紫外（DUV）激光，能发射 193 纳米的相干光（Coherent Light），与当前被广泛采用的DUV曝光技术的光源波长一致。相关论坛已经于本月初被披露在了国际光电工 ...