最近，一向以“高冷”著称的三星集团掌门人李在镕，突然低调访华，先是拜访小米创始人雷军，随后又向比亚迪董事长王传福“取经”。这位在韩国商界叱咤风云的“第一财阀”，在中国却全程陪笑，态度谦逊得令人意外。

2025年3月26日，上海国际半导体展的镁光灯下，深圳新凯来发布的五款设备引发轰动，其ALD“阿里山”原子层沉积设备通过中芯国际5纳米试验线验证，良率突破99.3%，ETCH“武夷山”刻蚀设备搭载自研静电卡盘专利，晶圆表面电荷释放速度提升40%。

EUV 光罩坯料是一种低热膨胀玻璃基板，表面覆有各种光学镀膜。EUV 光罩坯料由基板上的 40 至 50 层或更多交替的硅和钼层组成。虽然目前市场上只有 Hoya 和 AGC ...

国产EUV光刻机横空出世，蔡正元：ASML有可能要倒闭 ...

正是基于上述ASML EUV的深积淀与高壁垒，决定了其他厂商要想以同样的技术路线实现替代或者赶超几无可能，惟有另辟蹊径。而这也是近日佳能NIL和中国LDP技术路线在业内引起强烈反响和争论的主要原因。

去年6月，英特尔与资产管理公司Apollo达成了金额110亿美元的“智能资本”战略交易协议：英特尔向Apollo宣布基金及附属公司出售爱尔兰莱克斯利普Fab 34晶圆厂的49%股权。英特尔仍持有与Apollo合资的晶圆厂企业51%股份，继续拥有Fab ...

中科院正式宣布，中方开始关闭EUV的大门 ...

High-NA EUV技术由荷兰ASML公司研发，被业界视为继传统EUV之后最具变革性的芯片制造平台。英特尔是该设备的首批部署客户，借此加速推进其“IDM 2.0”战略，在未来数年内实现从18A到14A的制程跃迁。

但芯片制造严重依赖极紫外光刻（EUV）技术，该技术却成为扩大生产规模的关键阻碍。自 2019 年首批商用 EUV 芯片下线以来，设备、光罩制作以及 ...

但芯片制造严重依赖极紫外光刻（EUV）技术，该技术却成为扩大生产规模的关键阻碍。自 2019 年首批商用 EUV 芯片下线以来，设备、光罩制作以及光刻胶技术持续改进，让这项技术逐步趋于稳定。不过，尽管芯片良率有所提升，与更为成熟的光刻技术相比 ...

报告: 美光将 EUV 应用于1c DRAM，但与竞争对手相比使用量最小化 据媒体报道，美光上月发布的10nm级第六代(D1c) DRAM原型机仅在少数工艺中采用了EUV(极紫外)技术。媒体援引美光一位代表的话说:“EUV技术还缺乏足够的技术稳定性，所以我们只在绝对必要的工艺中应用了它。我们评估了成本和生产率，并确定现在是引入它的最佳时机。” 这种方法与三星电子和 SK 海力士的方法截然不同。三星 ...