最近，一向以“高冷”著称的三星集团掌门人李在镕，突然低调访华，先是拜访小米创始人雷军，随后又向比亚迪董事长王传福“取经”。这位在韩国商界叱咤风云的“第一财阀”，在中国却全程陪笑，态度谦逊得令人意外。

2025年3月26日，上海国际半导体展的镁光灯下，深圳新凯来发布的五款设备引发轰动，其ALD“阿里山”原子层沉积设备通过中芯国际5纳米试验线验证，良率突破99.3%，ETCH“武夷山”刻蚀设备搭载自研静电卡盘专利，晶圆表面电荷释放速度提升40%。

与行业巨头ASML的EUV系统相比，NIL技术具有显著的成本和能耗优势。在成本方面，EUV系统的研发、生产和维护都需要巨大的投入，其设备价格高昂，运行过程中还需要大量的配套设施和专业人员。而NIL设备由于其原理相对简单，不需要复杂的光学系统和高精度的 ...

EUV 光罩坯料是一种低热膨胀玻璃基板，表面覆有各种光学镀膜。EUV 光罩坯料由基板上的 40 至 50 层或更多交替的硅和钼层组成。虽然目前市场上只有 Hoya 和 AGC ...

国产EUV光刻机横空出世，蔡正元：ASML有可能要倒闭 ...

去年6月，英特尔与资产管理公司Apollo达成了金额110亿美元的“智能资本”战略交易协议：英特尔向Apollo宣布基金及附属公司出售爱尔兰莱克斯利普Fab 34晶圆厂的49%股权。英特尔仍持有与Apollo合资的晶圆厂企业51%股份，继续拥有Fab ...

中科院正式宣布，中方开始关闭EUV的大门 ...

High-NA EUV技术由荷兰ASML公司研发，被业界视为继传统EUV之后最具变革性的芯片制造平台。英特尔是该设备的首批部署客户，借此加速推进其“IDM 2.0”战略，在未来数年内实现从18A到14A的制程跃迁。

但芯片制造严重依赖极紫外光刻（EUV）技术，该技术却成为扩大生产规模的关键阻碍。自 2019 年首批商用 EUV 芯片下线以来，设备、光罩制作以及 ...

在政策的支持下，中国企业在国产光刻胶上取得了多项突破。2024年，湖北某半导体材料公司自主研发的ArF/KrF光刻胶通过客户评估，获得两家晶圆厂订单，总额超过100万元，实现了从原材料到成品的全流程国产化。2025年恒坤新材将从科创板IPO募资15亿元，投向安徽生产基地，其KrF光刻胶已批量供应12英寸产线，覆盖7nm工艺，预计2025年底产能将达到500吨/年。

研究基于320kV高电荷态离子综合研究平台高分辨反应显微成像谱仪，通过精确测量氮离子与氦原子碰撞过程中的量子态分布，获得了日冕物质抛射中极紫外发射（EUV）的光谱特征，包括谱线强度比例和能量变化规律。与传统方法相比，这一新方法提高了EUV谱线 ...