快科技2月26日消息，ASML Twinscan EXE:5000 EUV是当今世界上最先进的EUV极紫外光刻机，支持High-NA也就是高孔径，Intel去年抢先拿下了第一台，目前已经在俄勒冈州Fab D1晶圆厂安装部署了两台，正在紧张地研究测试中 ...

IT之家 3 月 12 日消息，韩媒 FNnews 昨日（3 月 11 日）发布博文，报道称三星电子本月初在其华城园区引入了 ASML 生产的 High NA 极紫外光刻（EUV）设备，希望提升 2 纳米及以下制程的竞争力。ASML 的 High ...

快科技2月25日消息， Intel宣布，ASML首批两台高数值孔径（High-NA EUV）极紫光刻机已经在其工厂投入生产 。初步数据显示，其效率、可靠性比上一代EUV光刻机都有明显提升。

根据 ASML 的数据，下一代深紫外光刻（DUV）系统使用 193 纳米波长的氩氟激光，可实现 38 纳米特征尺寸的打印；而 EUV 光刻使用 13.5 纳米波长的光，精度更高，但成本也更高。 与美光不同，三星和 SK 海力士在 DRAM ...

近日，全球领先的半导体制造设备供应商ASML推出的Twinscan EXE:5000 EUV光刻机，凭借其High-NA（高孔径）技术，成为了当前半导体制造领域中最耀眼的明星。据悉，Intel已率先引入并部署了两台此型号的光刻机于其俄勒冈州的Fab D1晶圆厂内，目前正处于紧张的测试与研发阶段。 Intel资深首席工程师Steve ...

快科技2月25日消息， Intel宣布，ASML首批两台高数值孔径（High-NA EUV）极紫光刻机已经在其工厂投入生产 。 初步数据显示，其效率、可靠性比上一代 ...

在内存技术的最新进展中，美光公司（Micron）已经成功地为英特尔（Intel）和AMD等客户提供了1γ（gamma）DDR5的样品，这一成就标志着美光在行业内率先实现了技术突破。

快科技3月11日消息，近日， 存储大厂美光正式发布1γ（gamma）10nm级DRAM内存之后，已经开始向Intel、AMD等客户交付1γ DDR5内存的样品，成为存储行业第一家达成这一里程碑的企业。

近日，英特尔在ISSCC2025大会上详细介绍了备受瞩目的Intel 18A工艺技术，这一消息引发了广泛关注。作为半导体制程领域的又一重大突破，Intel ...

2月23日消息，近日英特尔通过官网正式上线了对于其最尖端的Intel 18A制程工艺的介绍，并称其已经“准备就绪”。根据外界预计，Intel 18A将于2025 年年中进入量产，将由酷睿 Ultra 300 系列“Panther Lake”处理器首发，预计将于今年下半年上市。能效提升15%，密度提升30%根据英特尔官网的介绍资料显示，与Intel 3 ...

路透社报道，处理器大厂英特尔 (Intel) 日前产业会议透露，开始用两台艾司摩尔（ASML）High-NA Twinscan EXE:5000 EUV微影曝光机。英特尔工程师Steve ...