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Tripod Polisher 590三脚抛光器
PELCO® Tripod PolisherTM 590由IBM East Fishkill实验室的研究人员设计，以准确地制备预先指定的微米尺度区域的透射电镜和扫描电镜样品。对于TEM样品，该技术已成功地用于将离子研磨时间限制在15分钟以内，并且在某些情况下，消除了离子研磨的需要。 尽管这项技术是 ...
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PELCO® Tripod PolisherTM 590由IBM East Fishkill实验室的研究人员设计，以准确地制备预先指定的微米尺度区域的透射电镜和扫描电镜样品。对于TEM样品，该技术已成功地用于将离子研磨时间限制在15分钟以内，并且在某些情况下，消除了离子研磨的需要。 尽管这项技术是 ...