现在国人最关心的就是何时能攻克EUV光刻机,这是我们科技发展征途上的唯一拦路虎,所谓的科技战真正能掐脖子的只有EUV光刻机了，只有造出了EUV光刻机，全国人民才能安心，关键时刻还得看华为。

究竟谁能最终在未来的光刻技术竞赛中占据更有利的位置，时间和市场将会给出最终的答案。

在全球半导体行业面临技术壁垒和地缘政治压力的背景下，华为在芯片制造领域再次传来重大消息。据多方消息来源透露，华为已开始在其东莞工厂测试一款国产的极紫外光刻（EUV）芯片制造设备。如果测试顺利，这项技术突破可能使华为和中国的半导体产业在不依赖荷兰光刻巨 ...

EUV技术自从其提出以来，面临着多重挑战，包括高成本、复杂的光学系统以及需要在高精度下制造光罩等。然而，随着技术不断成熟，EUV逐渐突破了制程限制，尤其在10nm及以下的制程中展现出了其不可替代的优势。

除了AI和HBM，用于5G、自主系统和边缘计算的下一代逻辑器件也将需要EUV在某些关键层上的分辨率优势。根本挑战在于，尽管市场对AI芯片的需求呈指数级增长，但能够生产基于EUV的芯片的晶圆厂数量仍然有限。

报告: 美光将 EUV 应用于1c DRAM，但与竞争对手相比使用量最小化 据媒体报道，美光上月发布的10nm级第六代(D1c) DRAM原型机仅在少数工艺中采用了EUV(极紫外)技术。媒体援引美光一位代表的话说:“EUV技术还缺乏足够的技术稳定性，所以我们只在绝对必要的工艺中应用了它。我们评估了成本和生产率，并确定现在是引入它的最佳时机。” 这种方法与三星电子和 SK 海力士的方法截然不同。三星 ...

自2019年首批商用EUV芯片问世以来，设备迭代、掩模生成和光刻胶技术的持续改进已使该技术趋于稳定。尽管良率持续提升，但与成熟度更高的深紫外（DUV）光刻相比仍存在显著差距。工艺稳定性需要持续监控与微调，而发电设备、专用设备及耗材方面的高额投入，使得 ...

据TrendForce报道，三星已经在本月初在其华城园区引入了首台ASML制造的High-NA EUV光刻机，型号为“TWINSCAN ...

全球半导体巨头纷纷加速引入 High-NA EUV 设备，英特尔（Intel）在 2023 年率先采购了 ASML 的首台 High-NA EUV 设备，并已签订合同购买总计 6 台。据路透社报道，英特尔的前两台 High-NA EUV ...