1984年4月1日愚人节这一天，飞利浦和跟荷兰的一家小公司合资，成了一家新公司。新公司的缩写叫ALS，跟渐冻症的缩写是一样的。一直到1996年，这家公司改名叫ASML。 也就是现在，大名鼎鼎的ASML。 今年，ASML的High NA EUV光刻机成为设备新晋“顶流”。其数值孔径（NA）从之前标准 EUV 光刻机的 0.33 提升到了 0.55 ，镜头的分辨率从之前的13 nm提升到了 8 nm， ...

近日据芯智讯报道，俄罗斯自研出EUV光刻机。这一重大突破或将打破ASML在该领域的技术垄断，为全球半导体产业带来新的变革。 EUV光刻机是制造 ...

01 ASML是光刻机制造商，今年High NA EUV光刻机成为设备新晋“顶流”，数值孔径从0.33提升至0.55，镜头分辨率从13nm提升至8nm。 02 2012-2023年，ASML共出货 ...

1月6日消息，美国劳伦斯利弗莫尔国家实验室（LLNL）宣布开发出了一种名称为大孔径铥 （BAT） 激光器，旨在为极紫外 （EUV） 光刻技术的下一步发展奠定基础。该激光器的效率号称是目前ASML EUV光刻机中使用的二氧化碳（CO2）激光器的 10 倍，并有望在多年后取代光刻系统中的 CO2 激光器。

这款EUV光刻系统与艾斯摩（ASML）的标准不同，但其目标是要比ASML的光刻机更便宜、更容易制造。一些大陆网民在网上留言对此表示质疑，同时也有 ...

快科技12月19日消息，据报道，日本初创晶圆代工厂Rapidus已成功接收其订购的首台ASML EUV光刻机，这是日本境内首次引入量产用EUV光刻设备。 Rapidus也 ...

市场消息指出，曝光机商ASML取消非员工订购限量版Twinscan EXE:5000乐高订单。这款售价230美元乐高是3.8亿美元High-NA EUV高数值孔径极紫外曝光机的微缩 ...

半导体设备龙头艾司摩尔执行长 Christophe Fouquet近日受访时提到，目前大陆主要的晶片生产商虽然取得不错的进展，但是在EUV设备禁令下，与西方国家 ...

ASML is canceling orders for the $230 Lego kit version of its $380 million High-NA EUV machine coming from non-ASML employees, as @jonmasters discovered. This limited-edition Twinscan EXE ...

Holding a near-monopoly in Extreme Ultraviolet (EUV) lithography, ASML is the sole supplier of EUV machines, which are critical for producing the most advanced semiconductors. This unique ...

Russia has unveiled a roadmap to develop its own lithography machines, aiming to create less costly and complex equipment than ASML's systems, according to CNews. These machines will use lasers ...

这也是日本境内首次引入量产用 EUV 光刻设备。 Rapidus 首席执行官、日本政府代表、北海道及千岁市地方政府代表、ASML 高管、荷兰驻日本大使等相关 ...